光學(xué)鏡片純水設(shè)備概述：

光學(xué)鏡片純水設(shè)備包括四個流程：洗滌、漂洗、脫水、干燥。 因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的工藝：有先進(jìn)行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進(jìn)行水基清洗;也有先進(jìn)行溶劑清洗，再用乳化劑溶解溶劑，再進(jìn)行水基清洗的。利用流水將洗滌后鏡片表面的洗劑和污物溶解、排除的過程稱為漂洗。

光學(xué)鏡片純水設(shè)備水質(zhì)要求：

手機(jī)面板、光學(xué)鏡片、光學(xué)玻璃清洗對超純水水質(zhì)要求高，帶電力離子和污垢會對鏡片產(chǎn)生不可逆損害,終端水質(zhì)要求≥17.5MΩ*cm(25℃)。

光學(xué)鏡片純水設(shè)備技術(shù)要求：

光電光學(xué)玻璃行業(yè)的超純水設(shè)備主要是為玻璃清洗時給超聲波提供超純水，鍍膜玻璃鏡片清洗超純水設(shè)備設(shè)計上，采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO+EDI+SMB除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)出水電阻率達(dá)到18.2 MΩ.cm。關(guān)鍵設(shè)備及材料均采用主流可靠產(chǎn)品，采用PLC+觸摸屏控制，全套系統(tǒng)自動化程度高，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。

光學(xué)鏡片純水設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)：

1.研磨是光學(xué)玻璃生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量(外觀和精度)的重要工序。

2.研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數(shù)企業(yè)的加工過程中會有漆片。

3.其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。

4.根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉。

5.在研磨過程中使用的瀝青是起保護(hù)作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。

6.玻璃研磨過后，需要用超純水進(jìn)行產(chǎn)品的清洗，以獲得高品質(zhì)的產(chǎn)品。