光學材料生產用超純水設備概述：

光學材料生產用超純水設備包括四個流程：洗滌、漂洗、脫水、干燥。 因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的工藝：有行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進行水基清洗;也有行溶劑清洗，再用乳化劑溶解溶劑，再進行水基清洗的。利用流水將洗滌后鏡片表面的洗劑和污物溶解、排除的過程稱為漂洗。

光學材料生產用超純水設備水質要求：

手機面板、光學鏡片、光學玻璃清洗對超純水水質要求高，帶電力離子和污垢會對鏡片產生不可逆損害,終端水質要求≥17.5MΩ*cm(25℃)。

光學材料生產用超純水設備技術要求：

光電光學玻璃行業的超純水設備主要是為玻璃清洗時給超聲波提供超純水，鍍膜玻璃鏡片清洗超純水設備設計上，采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO+EDI+SMB除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用主流可靠產品，采用PLC+觸摸屏控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。

光學材料生產用超純水設備標準：

1.研磨是光學玻璃生產中決定其加工效率和表面質量(外觀和精度)的重要工序。

2.研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數企業的加工過程中會有漆片。

3.其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。

4.根據鏡片的材質及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉。

5.在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。

6.玻璃研磨過后，需要用超純水進行產品的清洗，以獲得高品質的產品。