純水機(jī)設(shè)備典型工藝流程：
1: 預(yù)處理－反滲透－純化水箱－離子交換器－紫外燈-純水泵－用水點(diǎn)
2: 預(yù)處理－一級(jí)反滲透－二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點(diǎn)
3: 預(yù)處理－反滲透－中間水箱－中間水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點(diǎn)
4: 預(yù)處理→紫外線殺菌裝置→一級(jí)RO裝置→二級(jí)RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點(diǎn)
純水機(jī)設(shè)備技術(shù)：
反滲透是用足夠的壓力使溶液中的溶劑(一般常指水)通過(guò)反滲透膜(一種半透膜)而分離出來(lái)，方向與滲透方向相反，可使用大于滲透壓的反滲透法進(jìn)行分離、提純和濃縮溶液。反滲透膜的主要分離對(duì)象是溶液中的離子范圍。
反滲透純水系統(tǒng)根據(jù)不同的源水水質(zhì)采用不同的工藝。一般自來(lái)水經(jīng)一級(jí)反滲透系統(tǒng)處理后，產(chǎn)水電導(dǎo)率＜10-20μS/cm，經(jīng)二級(jí)反滲透系統(tǒng)后產(chǎn)水電導(dǎo)率＜5μS/cm甚至更低，在反滲透系統(tǒng)后輔以離子交換設(shè)備或EDI設(shè)備可以制備超純水，使電阻率高達(dá)18兆歐姆.厘米。 反滲透膜老化或受污染后，產(chǎn)水質(zhì)量會(huì)下降.
純水機(jī)設(shè)備優(yōu)點(diǎn)：
①不需加熱、沒(méi)有相變；
②能耗少；過(guò)程連續(xù)穩(wěn)定；
③設(shè)備體積小、操作簡(jiǎn)單，適應(yīng)性強(qiáng)；
④對(duì)環(huán)境不產(chǎn)生污染。
純水機(jī)設(shè)備應(yīng)用：
電子工業(yè)用水 集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器件沖洗水
制藥行業(yè)用水 制藥行業(yè)用水 大輸液、針劑、片劑、生化制品、設(shè)備清洗等
化工行業(yè)工藝用水 化工循環(huán)水、化工產(chǎn)品制造等
電力行業(yè) 鍋爐補(bǔ)給水 火力發(fā)電鍋爐、廠礦中低壓鍋爐動(dòng)力系統(tǒng)等
食品工業(yè)用水 飲用純凈水、飲料、啤酒、白酒、保健品等
超聲波清洗用水 電腦配件、特種材料、精密機(jī)械等要求高清潔度的超聲波清洗線
電鍍行業(yè)用水 清洗工件用水,槽液用水
其它工藝用水 汽車(chē)、家電涂裝、鍍膜玻璃、化裝品、精細(xì)化學(xué)品等
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