在電子半導體，芯片，硅晶，電池等產品的制造過程中，超純水中總有機碳TOC(Total Organic Carbon)的含量，是評估水中有機物含量的指標之一，對產品的質量和性能有著至關重要的影響。

在半導體制造工藝中，對于純水設備和超純水系統中的離子和有機污染物方面有最嚴格的要求。在其超純水系統中控制和測量這些污染物已經使半導體制造企業能夠提高產品質量和產能。水凈化處理技術發展和這些污染物檢測儀器的創新在改善和檢測超純水水質方面，已經發揮了重大作用。接著這些進步又推動超純水中的各項污染物的允許極限值不斷降低。

總有機碳（TOC）分析技術是用于監測超純水有機污染物含量和“健康的”的超純水系統的強有力工具。在過去數十年間，超純水TOC項的檢測極限降低了幾個數量級，導致TOC含量檢測極限從ppb級朝ppt級發展。隨著未來的新一代芯片技術預計將達到更窄的線寬，半導體制造企業對超純水的要求不僅是更低濃度含量的有機物和離子污染物，而且檢測儀器也需要能夠精確，快速地進行檢測和響應。

為什么要脫除超純水中有機碳？

超純水中的有機碳（TOC）含量過高，對電子半導體會產生諸多不良影響：

1. 有機物和雜質殘留在產品上，會導致電子元器件性能下降，失效。

2. 有機物在特定條件下，會發生氧化反應，導致半導體材料氧化和腐蝕，損壞電子器件的結構和功能。

3. 當有機物殘留在水中時，會形成氣泡或微小氣體團附著在產品表面，損壞電子器件的結構和功能。

4. 降低超純水的清潔效果，無法有效去除表面的污染物和雜質。

目前，ClearUV紫外線TOC脫除器，可以高效降解TOC，將超純水有機碳TOC含量控制在行業安全范圍內,以確保產品的品質和性能。